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导读：光刻机卡在脖子上成了华为的心痛，也成了悬在我们头上的一把利剑。按理说，海内光刻技能短期内很难有大的打破，但只要循序渐进，从量变到质变，都可以有打破。据中科院官方网站动静，中科院上海光学紧密机器研究所克日在光刻技能方面取得重要希望。 中科院计...

光刻机卡在脖子上成了华为的心痛，也成了悬在我们头上的一把利剑。按理说，海内光刻技能短期内很难有大的打破，但只要循序渐进，从量变到质变，都可以有打破。据中科院官方网站动静，中科院上海光学紧密机器研究所克日在光刻技能方面取得重要希望。

中科院计较光刻技能研究取得希望

据中科院官网报道，上海光学机器近间隔校正研究所信息光学与光电子技能尝试室提出了一种基于虚拟边沿和带相位采样掩模像素的快速光学近间隔效应校正技能，仿真功效表白，该技能具有较高的校正效率。

本文通过调解掩模图像的透过率漫衍来校正光学靠近效应，提高了图像质量。基于模子的OPC技能是90nm及以下工艺节点集成电路建造的要害计较光刻技能之一。

中科院上海光学紧密机器研究所

另外，中科院还推广了计较光刻技能。所谓计较光刻技能，就是在光刻机软硬件稳定的环境下，操作数学模子和软件算法，对光刻机的照明方法、掩模图案和工艺参数举办优化，可以有效地提高光刻判别率，增加工艺窗口。这项技能被认为是凭据摩尔定律继承成长集成电路芯片的新动力。